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双面研磨抛光机的使用操作,你做对了几点?

双面研磨抛光机的使用操作，你做对了几点？ 双面研磨抛光机广泛应用于各种材料的双面研磨抛光，像东研自主研发的ZS1200B-S、ZS930B-S、ZS640B-S以及ZS460B-S系列的双面研磨抛光机研磨抛光后可达到≤0.002mm的平面误差。 然而，在实际应用中，有些用户往往会忽略抛光设备的正确使用方法，导致设备在研磨抛光的过程中出现各种故障。接下来，一起随小编看看双面研磨抛光机的使用方法你正确了几点呢？ 点双面研磨抛光机的抛光率要达到，这样便可以尽快消除产生的损伤层。而且粗抛和精抛这两道工序前后需正确也不可任意省略其中一道工序。粗抛主要目的是去除磨光损伤层，精抛主要是消除粗抛产生的表层损伤，达到抛光损伤的目的。 第二点要注意抛光过程中试样磨面与抛光盘要平行并均匀轻压在抛光盘上，同时要避免试样飞出和因压力太大出现新的划痕。

研磨机更换磨盘的技巧

研磨机更换磨盘的技巧 研磨机广泛用于工件平面加工，致力于提高工件的精度以及表面处理。而研磨盘是研磨机工作运行的辅助配件，在更换时要掌握一定的技巧才能更好的发挥研磨盘的性能。 在更换研磨盘的时候要格外小心，不要压坏研磨机的外表面和电机。同时，研磨使用完后要及时清洗，不要乱放。 第二在修整研磨盘的平面度可采用金刚石修面刀进行精密修整，可达到理想的平面效果。值得注意的是在使用过程中，要按照正确的顺序操作。

时间对平面抛光研磨机的抛光液PH的影响分析

时间对平面抛光研磨机的抛光液PH的影响分析 抛光液PH值是抛光元件表面粗糙度的重要影响因素，他是抛光元件化学抛光的重要组成部分。事实证明，当抛光压力、温度等外界因素相匹配时，平面抛光研磨机抛光时的PH值应控制在11.25左右，这时候化学抛光和机械抛光的作用相平衡，抛光效果! 抛光液中PH值参数是衡量一种液体性能是否稳定的重要因素。很多抛光液使用者并没有清楚的意识到这一点，他们往往对抛光液内的粒度分布，粒径大小，均匀性，配比等感兴趣，而忽略了一个重要的因素-PH值对整个液体状的的影响。 在化学性质的液体中，PH值的大小影响着液体性能的稳定。抛光液一般在微酸或者微碱的时候，对平面抛光研磨机工件的抛光效果，所能达到的表面粗超度。当PH值偏碱性时，粗超度变大。所以在配置这种液体的时候，我们不能忽略这一点，一定要反复试验，取得一个稳定值。 抛光液的PH值是变化的。这是因为抛光液会随着时间的变化而变化。由于某些工件在抛光时产生水解作用,在实际抛光过程中抛光液的pH值会随抛光时间不断变化。在每次添加抛光液后,pH值的变化为剧烈。因此一开始先每隔15s测量一次,之后每隔1min测量一次,从而可得出不同初始pH值的抛光液在抛光过程中pH值的变化规律。在对不含有碱金属氧化物,不会与水产生水解反应,在平面抛光研磨机的抛光过程中抛光液的pH值基本保持不变,所以其抛光方法也不同。